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半導體電子設備

晶片腐蝕清洗機

發(fā)布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次

晶片腐蝕清洗機(圖1)

 

概述:

本機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備,雙槽式設計,外殼采用電器控制元件。

主要特點:

帶有上下抖動功能,能有效充分的腐蝕晶片。

腐蝕槽可采用石英缸,也可采用進口PP槽。

自動補液,自動放液,減少人為操作。

水沖洗槽采用循環(huán)水,自動溢流,節(jié)約水源。

可采全自動方式,也可采用手動控制方式。


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